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L'écran à cristaux liquides TFT présente les caractéristiques d'une grande surface, d'une intégration élevée, d'une fonction solide, d'un faible coût, d'une technologie flexible et de vastes domaines d'application.

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Ci-dessous, nous présenterons en détail les différentes caractéristiques de l’écran LCD TFT :

(1) À grande échelle : la première génération de substrat de verre à grande échelle (3 000 mm x 400 mm) TFT au début des années 1990, la surface du substrat de verre s'est étendue à 6 800 mm x 880 mm au premier semestre 2000 et le substrat de verre de 950 mm x 1 200 mm a également été mis en service. récemment.

(2) Haute intégration : la résolution de la puce d'affichage TFT de 1,3 pouces de projection LCD est XGA, qui contient des millions de pixels. La résolution est . L'épaisseur du film du silicium amorphe TFT de 16,1 pouces du SXGA (1280x1024) n'est que de 50 nanomètres. L'intégration technique de TABONGLAS et SYSTEMONGLASS, les exigences techniques en matière d'équipement et de fourniture, ainsi que la difficulté technique sont supérieures à celles du LSI traditionnel.

(3) Fonctions complètes : l'écran à cristaux liquides TFT était à l'origine utilisé comme circuit de sélection d'adresse matricielle, ce qui a amélioré les caractéristiques de la valve lumineuse à cristaux liquides. Pour les écrans haute résolution, l'écran LCD peut obtenir un affichage haute résolution de haute qualité en ajustant la tension dans la plage d'affichage 0-6 V (sa valeur typique est de 0,2 ~ 4 V) et en contrôlant correctement l'élément cible.

(4) Faible coût : les substrats en verre et les substrats en plastique résolvent fondamentalement le problème de coût des circuits intégrés à semi-conducteurs à grande échelle et ouvrent un large espace d'application pour l'application de circuits intégrés à semi-conducteurs à grande échelle.

(5) Flexibilité du processus : en plus de la pulvérisation cathodique, de la technologie de recuit laser, du CVD (dépôt chimique en phase vapeur), le MCVD peut choisir un film amorphe, un film multi-produits et un film mono-produit en plus de la formation de film traditionnelle telle que le dépôt chimique moléculaire en phase vapeur. Non seulement on peut faire un film de silicium, mais aussi faire d'autres choses. Films semi-conducteurs I-VI et tétra-V.

Dans les domaines d'application généraux, l'écran d'affichage à cristaux liquides LCD basé sur la technologie TFT constitue le pilier de l'industrie de la société de l'information et peut également être utilisé pour le développement rapide des transistors à couches minces. Écran plat (TFT-OLED).


Heure de publication : 10 août 2022